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精密光学

精密完美的应用

对光的操纵是精密光学行业的关键。其终端产品用于范围极为广泛的应用,如用于摄像头系统和手机的光学镜头、夜视设备、激光应用、电信和用于不同种类检测要求的传感器。待镀膜的基底可拥有小于 1 mm 或超过 4 m 的直径,以及各种形状和基底材料。 EUV 和 DUV 镀膜
为实现更高的分辨率和更小的结构,当前的研发注重使用波长为 13.4 nm 的 X 射线,即位于极紫外 (EUV) 范围。该层系统由单层厚度为几纳米的超过 100 个层组成。这需要镀膜工艺具有高精度、高稳定性和出色的可重复性。通过我们独特的 NESSY 系列溅射系统的成功开发和市场推广,布勒莱宝光学能够服务下一代 EUV 光刻应用。但是,该镀膜设备在其他应用领域同样具有极高的兼容性,如常常专门为极特定波长范围内测量设备设计的 X 射线镀膜的成型。

光刻的当前标准是使用 193 nm 深紫外 (DUV) 范围中的光。在 SYRUSpro 系列中,布勒莱宝光学已开发出一种专为 DUV 应用设计的镀膜系统。该镀膜系统可提供密集无偏移的镀膜,同时可提供 LEYBOLD OPTICS APSpro 离子源的所有镀膜优势。专用的 DUV 设备中带氟化物的镀膜显示出极低的损耗率,尤其可应用于光刻设备中所示会用的透镜的减反 (AR) 膜。该镀膜平台还能够生产反射率高达 99% 的高反射镜面镀膜。

IR 镀膜
夜视应用需要波长范围在 3 µm 到 5 µm 和 8 µm 和 12 µm 及以上的镀膜。布勒莱宝光学已开发出用于该特定设备的各种镀膜工艺。产品组合包括减反 (AR) 膜、镜面镀膜以及各种滤光片和带通镀膜。用于红外 (IR) 的带氟化物的镀膜在 LEYBOLD OPTICS APSpro 等离子体源的辅助下可额外实现更高的耐用性和环境耐受性。我们为 SYRUSpro 系列的 IR 范围应用设计了完美的设备。对于文件的高耐受性镀膜,我们开发了一种金刚石般的碳镀膜,它在我们名为 LEYBOLD OPTICS DLC 600 的等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 系统中经过处理。

激光和镜面镀膜
激光镀膜需要在整个使用寿命中具有高反射性、低损耗和高性能,以及高激光损坏阈值。布勒莱宝光学提供种类繁多的设备和镀膜工艺,可用于从深紫外 (DUV)、可见光谱 (VIS) 和近红外 (NIR) 直到红外 (IR) 的整个光谱范围。蒸发工艺和设备专门针对相应的波长应用量身打造。

对于采用溅射的激光镀膜,布勒莱宝光学也通过用于光学应用的 HELIOS 系列溅射系统提供关键解决方案。通过 HELIOS 系统可获得具有低损耗、高反射性和低散射的密集、无偏移层。该设备配备了载荷锁系统,同时可保持镀膜腔室处于真空下,可完美地适用于洁净室安装,而且是洁净室环境下实现高生产力的完美选择。

对于配备增强层系统的宽带镜面,SYRUSpro 系列和 HELIOS 系列镀膜机可提供多种镀膜工艺。一种特殊的应用是用于投影仪应用的冷光镜面,其中需要从高曲率基底上的介电镜面镀膜获得高光输出。针对此应用,具有旋转安装的行星系统的 SYRUSpro 1510 是合适的选择。

介电滤光片镀膜
针对市场对介电滤光片的极高需求,布勒莱宝光学除了其镀膜系统外还提供介电滤光片镀膜形式的解决方案以供验收测试。这包括用于数码相机和手机的 UV-IR 截止滤光片、偏振分光器、带通滤光片镀膜、彩色滤光片镀膜、具有高阻断和多个凹穴的窄带通滤光片以及更多……

采用我们的优质 LEYBOLD OPTICS OMS 5100 设备的半球帽上直接光学监控系统可确保极具挑战性的滤光片镀膜的高精度、高生产可重复性,以及半球帽上多凹穴滤光片等镀膜(无直接监控的情况下无法获得)。SYRUSpro 系列蒸发镀膜系统融合了所有这些优势。更高级的是 HELIOS 系列镀膜机。其溅射系统配备使用 LEYBOLD OPTICS OMS 5100 的原位监控,它可直接在基底转台上进行测量,通过这样的方式,即使针对最苛刻的光学规格,也可提供兼具高可重复性和最高精度的优势。

关于布勒莱宝光学

在 2012 年初,Leybold Optics GmbH 成为总部位于瑞士的布勒集团的子公司:莱宝光学业务部,于 2015 年依法更名为 Bühler Alzenau GmbH,在布勒集团内的先进材料事业部下运营。

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